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靶材是濺射薄膜制備的源頭材料，又稱濺射靶材，特別是高性能濺射靶材應(yīng)用于電子元器件制造的物理氣相沉積（Physical Vapor Deposition，PVD）工藝，是制備半導(dǎo)體晶圓、顯示面板、太陽能電池等表面電子薄膜的關(guān)鍵材料。

濺射工藝最早起源于國外。起初濺射過程具有工作氣壓高、濺射基體溫升高、濺射沉積速率低等缺點(diǎn)，不滿足工業(yè)化生產(chǎn)的條件。自 20 世紀(jì) 80 年代以來，隨著輔助電極、磁控濺射、脈沖電源等新技術(shù)的應(yīng)用，濺射工藝優(yōu)勢逐步顯現(xiàn)，應(yīng)用范圍不斷拓寬。目前濺射工藝已廣泛應(yīng)用于各種薄膜材料的工業(yè)化制備，是目前主流的鍍膜方法。

在行業(yè)發(fā)展初期，濺射靶材及配套鍍膜設(shè)備均為國外廠商提供。由于國外濺射靶材廠商與設(shè)備廠商具有長期配套磨合的經(jīng)驗，靶材在使用過程中的濺射效果能夠充分滿足下游客戶的需求，具有較強(qiáng)的先發(fā)優(yōu)勢及競爭優(yōu)勢。因此，全球濺射靶材的研發(fā)及生產(chǎn)主要集中于美國、日本及德國等國家的少數(shù)公司，產(chǎn)業(yè)集中度較高。經(jīng)過幾十年的技術(shù)積淀，這些國外廠商憑借其雄厚的技術(shù)力量、精細(xì)的生產(chǎn)控制和過硬的產(chǎn)品質(zhì)量居于全球高端濺射靶材市場的主導(dǎo)地位。

受到發(fā)展歷史及技術(shù)限制的影響，我國濺射靶材行業(yè)起步較晚，目前多數(shù)濺射靶材企業(yè)產(chǎn)品仍主要應(yīng)用于下游的中低端產(chǎn)品，高端濺射靶材產(chǎn)品則多為國外進(jìn)口。全球濺射靶材市場中主要的四家企業(yè) JX 金屬、霍尼韋爾、東曹和普萊克斯，合計壟斷了全球約八成的市場份額。近年來，隨著平面顯示、半導(dǎo)體等制造產(chǎn)業(yè)產(chǎn)能向國內(nèi)不斷轉(zhuǎn)移，國內(nèi)濺射靶材需求已占到全球需求的約三成以上，隨著包括疫情在內(nèi)的周邊和國際環(huán)境的變化，實現(xiàn)國內(nèi)重點(diǎn)行業(yè)關(guān)鍵設(shè)備核心材料的自主可控具有必要性。

近年來，受益于國家從戰(zhàn)略高度持續(xù)地支持電子材料行業(yè)的發(fā)展及應(yīng)用推廣，我國國內(nèi)開始出現(xiàn)少量專業(yè)從事高性能濺射靶材研發(fā)和生產(chǎn)的企業(yè)，并成功開發(fā)出一批能適應(yīng)高端應(yīng)用領(lǐng)域的濺射靶材，為高性能濺射靶材的大規(guī)模產(chǎn)業(yè)化生產(chǎn)提供了良好的研發(fā)基礎(chǔ)和市場化條件。

第一章　靶材相關(guān)介紹

1.1　靶材基本概述

1.1.1　靶材概念界定

1.1.2　靶材主要特點(diǎn)

1.1.3　靶材分類標(biāo)準(zhǔn)

1.2　靶材產(chǎn)品類別

1.2.1　金屬靶材

1.2.2　陶瓷靶材

1.2.3　合金靶材

第二章　2017-2021年中國靶材行業(yè)發(fā)展環(huán)境分析

2.1　經(jīng)濟(jì)環(huán)境

2.1.1　世界經(jīng)濟(jì)形勢分析

2.1.2　國內(nèi)宏觀經(jīng)濟(jì)概況

2.1.3　工業(yè)經(jīng)濟(jì)運(yùn)行情況

2.1.4　國內(nèi)宏觀經(jīng)濟(jì)展望

2.2　政策環(huán)境

2.2.1　靶材行業(yè)監(jiān)管體制

2.2.2　靶材主要法律法規(guī)

2.2.3　進(jìn)口靶材免稅期結(jié)束

2.2.4　靶材其他相關(guān)政策

2.3　需求環(huán)境

2.3.1　芯片行業(yè)快速發(fā)展

2.3.2　國產(chǎn)化代替空間大

2.3.3　下游需求向國內(nèi)轉(zhuǎn)移

2.4　產(chǎn)業(yè)環(huán)境

2.4.1　半導(dǎo)體制造材料發(fā)展現(xiàn)狀

2.4.2　半導(dǎo)體制造材料競爭格局

2.4.3　半導(dǎo)體制造材料發(fā)展特點(diǎn)

2.4.4　半導(dǎo)體制造材料發(fā)展前景

2.4.5　半導(dǎo)體制造材料發(fā)展趨勢

第三章　2017-2021年中國靶材行業(yè)發(fā)展綜合分析

3.1　靶材行業(yè)發(fā)展概況

3.1.1　行業(yè)產(chǎn)業(yè)鏈分析

3.1.2　行業(yè)應(yīng)用結(jié)構(gòu)

3.1.3　主要制備工藝

3.1.4　主要制約因素

3.1.5　國內(nèi)外技術(shù)差距

3.2　靶材行業(yè)運(yùn)行狀況分析

3.2.1　全球市場規(guī)模

3.2.2　國內(nèi)需求分析

3.2.3　行業(yè)發(fā)展形勢

3.2.4　市場競爭格局

3.2.5　典型企業(yè)布局

3.3　PVD鍍膜材料行業(yè)發(fā)展分析

3.3.1　材料基本概述

3.3.2　行業(yè)發(fā)展特性

3.3.3　行業(yè)競爭格局

3.3.4　行業(yè)進(jìn)入壁壘

3.3.5　行業(yè)主要企業(yè)

第四章　2017-2021年中國ITO靶材行業(yè)發(fā)展分析

4.1　ITO靶材行業(yè)相關(guān)介紹

4.1.1　ITO靶材基本概述

4.1.2　ITO靶材研究背景

4.1.3　ITO靶材成形工藝

4.1.4　ITO靶材發(fā)展意義

4.1.5　ITO靶材發(fā)展挑戰(zhàn)

4.2　ITO靶材行業(yè)運(yùn)行狀況分析

4.2.1　ITO靶材發(fā)展現(xiàn)狀

4.2.2　ITO靶材市場規(guī)模

4.2.3　ITO靶材市場競爭

4.2.4　ITO靶材廠商發(fā)展

4.2.5　ITO靶材項目可行性

4.3　ITO靶材波特五力模型分析

4.3.1　供應(yīng)商議價能力分析

4.3.2　消費(fèi)者議價能力分析

4.3.3　新進(jìn)同行業(yè)的威脅分析

4.3.4　替代品的威脅分析

4.3.5　同行業(yè)競爭能力分析

第五章　2017-2021年中國靶材行業(yè)下游應(yīng)用領(lǐng)域發(fā)展分析

5.1　光伏電池靶材

5.1.1　應(yīng)用狀況分析

5.1.2　市場規(guī)模分析

5.1.3　行業(yè)競爭格局

5.1.4　行業(yè)發(fā)展挑戰(zhàn)

5.1.5　行業(yè)發(fā)展展望

5.2　磁記錄用靶材

5.2.1　行業(yè)發(fā)展概況

5.2.2　市場規(guī)模分析

5.2.3　行業(yè)競爭格局

5.2.4　行業(yè)發(fā)展挑戰(zhàn)

5.2.5　行業(yè)發(fā)展展望

5.3　面板靶材

5.3.1　面板價格走勢

5.3.2　面板靶材應(yīng)用

5.3.3　市場規(guī)模分析

5.3.4　行業(yè)競爭格局

5.3.5　行業(yè)發(fā)展挑戰(zhàn)

5.3.6　行業(yè)發(fā)展展望

5.4　半導(dǎo)體靶材

5.4.1　行業(yè)發(fā)展概況

5.4.2　市場規(guī)模分析

5.4.3　行業(yè)競爭格局

5.4.4　企業(yè)認(rèn)證周期

5.4.5　行業(yè)技術(shù)發(fā)展

5.4.6　市場需求預(yù)測

第六章　國際靶材行業(yè)領(lǐng)先企業(yè)經(jīng)營狀況分析

6.1　A

6.1.1　企業(yè)發(fā)展概況

6.1.2　企業(yè)經(jīng)營情況分析

6.2　B

6.2.1　企業(yè)發(fā)展概況

6.2.2　企業(yè)經(jīng)營情況分析

6.3　C

6.3.1　企業(yè)發(fā)展概況

6.3.2　企業(yè)經(jīng)營情況分析

第七章　中國靶材行業(yè)重點(diǎn)企業(yè)經(jīng)營狀況分析

7.1　A公司

7.1.1　企業(yè)發(fā)展概況

7.1.2　經(jīng)營效益分析

7.1.3　業(yè)務(wù)經(jīng)營分析

7.1.4　財務(wù)狀況分析

7.1.5　核心競爭力分析

7.1.6　公司發(fā)展戰(zhàn)略

7.2　B公司

7.2.1　企業(yè)發(fā)展概況

7.2.2　經(jīng)營效益分析

7.2.3　業(yè)務(wù)經(jīng)營分析

7.2.4　財務(wù)狀況分析

7.2.5　核心競爭力分析

7.2.6　公司發(fā)展戰(zhàn)略

7.3　C公司

7.3.1　企業(yè)發(fā)展概況

7.3.2　經(jīng)營效益分析

7.3.3　業(yè)務(wù)經(jīng)營分析

7.3.4　財務(wù)狀況分析

7.3.5　核心競爭力分析

7.3.6　公司發(fā)展戰(zhàn)略

7.4　D公司

7.4.1　企業(yè)發(fā)展概況

7.4.2　經(jīng)營效益分析

7.4.3　業(yè)務(wù)經(jīng)營分析

7.4.4　財務(wù)狀況分析

7.4.5　核心競爭力分析

7.4.6　公司發(fā)展戰(zhàn)略

第八章　中國靶材行業(yè)標(biāo)桿企業(yè)項目投資建設(shè)案例深度解析

8.1　平板顯示濺射靶材建設(shè)項目

8.1.1　項目發(fā)展概況

8.1.2　項目投資概算

8.1.3　項目實施進(jìn)度

8.1.4　項目經(jīng)濟(jì)效益

8.2　超高清顯示用銅靶材產(chǎn)業(yè)化建設(shè)項目

8.2.1　項目發(fā)展概況

8.2.2　項目投資概算

8.2.3　項目實施進(jìn)度

8.2.4　項目經(jīng)濟(jì)效益

8.3　鋁鈧靶材和鉬靶材的研發(fā)建設(shè)項目

8.3.1　項目發(fā)展概況

8.3.2　項目投資概算

8.3.3　項目實施進(jìn)度

8.3.4　項目經(jīng)濟(jì)效益

第九章　2017-2021年中國靶材行業(yè)投資機(jī)會分析及風(fēng)險預(yù)警

9.1　中國靶材行業(yè)投資機(jī)會

9.1.1　國家政策支持

9.1.2　大基金二期加持

9.1.3　下游快速發(fā)展

9.1.4　國產(chǎn)替代及產(chǎn)能轉(zhuǎn)移

9.2　中國靶材行業(yè)投資價值

9.2.1　行業(yè)投資的必要性

9.2.2　行業(yè)投資的可行性

9.3　中國靶材行業(yè)投資壁壘

9.3.1　客戶認(rèn)證壁壘

9.3.2　資金壁壘

9.3.3　技術(shù)壁壘

9.3.4　人才壁壘

9.4　中國ITO靶材項目投資風(fēng)險評估

9.4.1　技術(shù)風(fēng)險

9.4.2　財務(wù)風(fēng)險

9.4.3　市場風(fēng)險

9.4.4　管理風(fēng)險

9.5　中國ITO靶材項目投資建議

9.5.1　提高技術(shù)水平

9.5.2　完善財務(wù)制度

9.5.3　提高管理水平

9.5.4　提高營銷能力

9.5.5　其他方面建議

第十章　2022-2028年中國靶材行業(yè)發(fā)展前景及趨勢預(yù)測

10.1　中國靶材行業(yè)發(fā)展前景

10.1.1　靶材技術(shù)發(fā)展趨勢

10.1.2　ITO靶材發(fā)展機(jī)遇

10.1.3　ITO靶材前景展望

10.2　2022-2028年中國靶材行業(yè)預(yù)測分析

10.2.1　2022-2028年中國靶材行業(yè)影響因素分析

10.2.2　2022-2028年中國靶材市場規(guī)模預(yù)測